首頁
> 理腔室
-
應(yīng)用材料公司申請用于高密度等離子體強(qiáng)化的處理腔室的對稱天線陣列專利，提升處理腔室性能:高性能磁鐵
金融界2025年5月19日消息，國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示，應(yīng)用材料公司申請一項(xiàng)名為“用于高密度等離子體強(qiáng)化的處理腔室的對稱天線陣列”的專利，公開號CN119998920A，申請日期為2023年9月高性能
1
共1頁