金融界2025年5月19日消息，國家知識產權局信息顯示，應用材料公司申請一項名為“用于高密度等離子體強化的處理腔室的對稱天線陣列”的專利，公開號CN119998920A，申請日期為2023年9月高性能磁鐵 。
專利摘要顯示，本公開內容涉及一種天線陣列高性能磁鐵 。天線陣列包括多個電介質窗、主框架與多個副框架，多個電介質窗耦合到包括多個氣體端口的支撐結構、主框架包括連接到電源的主導管，多個副框架由主框架支撐。副框架包括連接到主導管的副導管。多個感應耦合器，多個感應耦合器設置在多個電介質窗上方并由副框架支撐。多個電感耦合器，多個電感耦合器包括多個天線連接器和多個天線。多個天線連接器將多個天線連接到副導管。
來源：金融界